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超聲波清洗設(shè)備的工藝流程介紹

超聲波清洗設(shè)備的工藝流程介紹

發(fā)布日期:2022-09-30 來源: 點(diǎn)擊:

1.研磨和清潔

這一工藝過程對超聲波清洗設(shè)備的工作效率和產(chǎn)品的表面質(zhì)量極為重要。該機(jī)主要清理研磨粉、瀝青和油漆薄片。不同的研磨粉也有不同的型號(hào),可以根據(jù)需要選擇。瀝青可以起到保護(hù)作用,防止鏡面被劃傷。清洗劑可以是半水清洗劑,也可以是有機(jī)溶劑清洗劑,可以保證研磨后的順利清洗。


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超聲波清洗設(shè)備的工藝流程介紹


2.涂層清洗

涂裝前要清洗一次,主要是防止各種污染物附著在機(jī)器上,其中有指紋、灰塵等。都很常見。鏡片的清潔度直接決定了鍍膜工藝能否達(dá)到合格標(biāo)準(zhǔn),所以鏡片在冷凍前的清洗和選擇好的清洗劑非常重要。不僅要考慮清洗劑的清洗能力,還要知道這類清洗劑是否具有腐蝕性。

掌握這兩個(gè)清理程序?qū)Τ暡ㄇ逑丛O(shè)備會(huì)大有裨益,大家在使用時(shí)不妨參考一下。